So Pure Polish Mask Refil 300ml - Keune Hair Cosmetics

So Pure Polish Mask é indicada para cabelos ressecados, indisciplinados e com frizz. Ela hidrata e nutre os fios, deixando-os polidos, alinhados, macios e brilhosos. Além disso, ajuda a controlar o frizz e mantém os fios no lugar até mesmo nos dias mais úmidos. É vegana, cruelty free e carbono neutro.

Buscando se livrar de vez dos fios arrepiados? So Pure Polish Mask é uma máscara de hidratação indicada para cabelos ressecados, indisciplinados, com frizz e difíceis de modelar. Sua textura consistente hidrata e nutre os fios, deixando-os polidos, alinhados, macios e com um brilho lindo. Com efeito cosmético, possui uma combinação de polissacarídeos extraídos da semente de chia que criam um escudo externo para blindar a fibra da umidade, protegendo e diminuindo os fios arrepiados. Dessa forma, ajudam a controlar o frizz e mantêm os fios no lugar até mesmo nos dias mais úmidos.

So Pure Polish Mask é um produto vegano, cruelty free (não é testado em animais), carbono neutro e possui fórmula concentrada, com 96% de ingredientes naturais. Além disso, não contém glúten, silicone e corantes artificiais e não danifica a coloração. Disponível no tamanho 300ml.

Como usar: Aplique sobre os cabelos úmidos, espalhando por todo o comprimento e pontas. Deixe agir por 5 minutos e enxágue.

Resultado: Cabelos alinhados, polidos e livres do frizz.

Ingredientes da Composição: Aqua, Cetearyl Alcohol, Behentrimonium Chloride, Glycerin, Cetrimonium Chloride, Parfum (Fragrance), Isopropyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Betaine, Sodium Benzoate, Lactic Acid, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Linum Usitatissimum (Linseed) Seed Extract, Salvia Hispanica Seed Extract, Benzyl Alcohol, Caprylic Acid, Xylitol, Benzyl Salicylate, Citronellol, Hydroxycitronellal, Limonene, Linalool.

Ingredientes Ativos: Semente de Chia: Hidrata e alinha os fios, protege do calor e da umidade do dia a dia.

23,5x4,5 cm